MetaOptics在臺灣部署直寫式鐳射光刻裝置，助力原型機設計與生產

新加坡2025年9月24日 /美通社/ — 前沿半導體光學公司MetaOptics Ltd（新加坡交易所凱利板上市程式碼：9MT）已在位於臺灣桃園的品頡奈米光學股份有限公司(Pin-Jye Nano Technologies Co., Ltd.)部署其直寫式鐳射光刻系統。此次安裝使超透鏡的原型機設計與製造更貼近該地區的半導體供應鏈，標誌著MetaOptics全球擴張邁出了重要一步。

透過構建本地開發能力，MetaOptics將會助力合作夥伴更快地進行產品迭代，並更高效地將概念轉化為產品。桃園基地還將成為擴大生產與開展合作的跳板。MetaOptics計劃增設直寫式鐳射光刻裝置和自動測試儀，以提升產能，滿足日益增長的超透鏡市場需求。作為這些努力的一部分，MetaOptics正在針對共封裝光學(CPO)開發超透鏡解決方案，並已展示出達到150奈米及以下精度的奈米製造能力。CPO現在是一項強大的新興技術，透過將資料傳輸介質從銅纜轉向光傳輸，有望為人工智慧(AI)基礎設施帶來革命性變革。MetaOptics的超透鏡陣列使光學接收器和收發器比傳統微光學器件更小巧，從而構建出更緊湊、可擴充套件性更強的系統。

MetaOptics Ltd執行主席兼執行長程章金(Mark Thng)表示:「臺灣地處全球半導體產業的核心地帶。此次部署讓我們更貼近我們的合作夥伴，使我們能夠以更快的交付週期、更優的整合方案以及可擴充套件的發展路徑，為他們提供支援。」

除了擴大在臺灣的超透鏡產能外，MetaOptics還在探索進軍美國市場，以便更好地服務核心客戶。為了支撐這一發展佈局，MetaOptics已提前鎖定長交期關鍵零部件，以確保能夠更快地複製其直寫式鐳射光刻裝置。MetaOptics的直寫式鐳射光刻裝置可以實現最小90奈米的線寬精度，其工藝水準遠超同類競爭系統。

展望未來，MetaOptics將與主要半導體原始裝置製造商(OEM)合作，打算進一步升級其直寫式鐳射光刻技術，以實現12英吋晶圓尺寸的加工，並支援多透鏡同步寫入功能。這種無掩模工藝與多透鏡寫入技術相結合，預計將顯著提升產能，並為規模化生產開創全新機遇。

這些努力是MetaOptics願景的重要組成部分，旨在透過簡化超透鏡的設計、測試及現實世界商業化流程，推動該技術更廣泛地普及應用。隨著直寫式鐳射光刻裝置的交付，MetaOptics預計2025財年的營收將顯著高於2024財年。

MetaOptics Ltd簡介

MetaOptics Ltd（凱利板上市程式碼：9MT）是一家前沿半導體光學企業，專注於開發基於玻璃材質的超透鏡解決方案，並利用由AI驅動的影象處理技術予以加強。該公司採用先進的光學設計及可擴充套件的12英吋深紫外(DUV)光刻工藝，為共封裝光學、移動裝置、增強現實/虛擬現實(AR/VR)、汽車電子及其他新興市場提供下一代應用支援。MetaOptics總部位於新加坡，致力於以當今最具創新力的科技品牌所要求的可靠性與可擴充套件性，交付高效能光學產品。垂詢銷售情況，請傳送郵件至sales@metaoptics.sg。

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